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辐射4非等方性过滤配置指南:优化设置与技巧

发布时间: 浏览:9 编辑:konglu

  《辐射4》非等方性过滤(各向异性过滤)配置指南

辐射4非等方性过滤配置指南:优化设置与技巧

  非等方性过滤等级

  设置推荐:可开启至8或更高等级。

  采样数量:16个采样。

  其他相关设置解析

  纹理品质:对性能影响不大,可随意设置。

  阴影品质:建议设置为低,以减轻显卡负担。

  阴影距离:低阴影距离可减少显卡负担。

  贴花数量:根据个人喜好调整,如火焰灼烧、爆炸痕迹、弹孔、血迹等。

  照明品质:光线特效较耗显卡资源,建议选择最低设置。

  灵光品质:光线在雾气中射出的效果,开启会消耗显卡资源,建议关闭。

  景深:选择最低设置可获得更佳的散景效果。

标题:辐射4非等方性过滤配置指南:优化设置与技巧
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